Innovative Positionierlösung für die DUV-Lithografie
Für die DUV-Lithografie hat Steinmeyer am Standort Dresden, Europas größtem IKT-/Mikroelektronik-Zentrum, eine ultrakompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung in trockener, sauerstofffreier Stickstoff-Atmosphäre entwickelt. Die innovative Baugruppe […]